标准编号：SJ 20842-2002，标准状态：现行。 本标准规定了砷化镓材料表面镓砷比的X射线光电子能谱的试验方法。本标准适用于监测砷化镓器件制造过程中各种表面处理对砷化镓晶片表面镓砷比的影响，也适用于晶片加工中的各种表面处理。
| 英文名称： | Test method for Ga/As ratio of surface of gallium arsenide |
| 中标分类： | >>>>H8
电子元器件与信息技术>>电子设备专用材料、零件、结构件>>L90电子技术专用材料 |
| 发布日期： | 2002-10-30 |
| 实施日期： | 2003-03-01 |
| 起草单位： | 中国电子科技集团公司第四十六所 |
| 页数： | 5页 |
| 出版社： | 工业电子出版社 |
| 出版日期： | 2004-04-19 |
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